光刻胶剥离液属于湿电子化学品中关键制剂之一，已在半导体、集成电路、光伏、显示面板等领域实现广泛应用。伴随着光刻胶渗透率大幅提升，光刻胶剥离液市场得以快速发展。2022年全球光刻胶市场规模约为25亿美元，同比增长7.8%。在此背景下，根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年光刻胶剥离液行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，2022年全球光刻胶剥离液市场规模约为7亿美元。

　　常用的光刻胶剥离液有以下几种：

　　1.NMPN-甲基吡咯烷酮，中文别名：NMP;1-甲基-2吡咯烷酮;N-甲基-2-吡咯烷酮。无色透明油状液体，微有胺的气味。挥发度低，热稳定性、化学稳定性均佳，能随水蒸气挥发。有吸湿性。对光敏感。易溶于水、乙醇、乙醚、丙酮、乙酸乙酯、氯仿和苯，能溶解大多数有机与无机化合物、极性气体、天然及合成高分子化合物。N-甲基吡咯烷酮在锂电、医药、农药、颜料、清洗剂、绝缘材料等行业中广泛应用。化学性质：在中性溶液中比较稳定。在4%的氢氧化钠溶液中8小时后有50%~70%发生水解。

　　2.乙醇胺，水溶液呈碱性，有极强的吸湿性，能吸收酸性气体，加热后又可将吸收的气体释放。有乳化及气泡作用。能与无机酸和有机酸生成盐类，与酸酐作用生成酯。其氨基中的氢原子可被酰卤、卤代烷等置换。可燃，遇明火、高温有燃烧的危险，蒸汽有毒。

　　3.二甲基亚砜二甲基亚砜(简称DMSO)是一种含硫有机化合物，英文Dimethylsulfoxide，分子式为(CH3)2SO，常温下为无色无臭的透明液体，具有吸湿性的可燃液体，既有高极性，高沸点，非质子，水混溶的特性，毒性极低，热稳定性好，与烷烃不混合，能溶于水、乙醇、丙醇、乙醚、苯和氯仿等大多数有机物，被誉为“万能Chemicalbook溶剂”。