N-甲基吡咯烷酮（NMP）
N-甲基吡咯烷酮（NMP）是一种极性的非质子传递溶剂，具有毒性低、沸点高、溶解力强、稳定性好等的特点，在半导体行业有着广泛的应用。
NMP在半导体制作过程中的清洗和去除杂质方面发挥着重要作用。在半导体芯片制造过程中，需要清洗晶圆以去除表面有机无机污染物，利用NMP的高溶解性和渗透性，可有效去除晶圆表面的杂质。确保芯片质量与性能，同时，NMP更可以用于去除光刻胶等有机物质，使芯片图案更加精晰与精确。
NMP用作半导体材料的溶解剂。在半导体材料制备过程中，需要把部分有机和无机特质溶解到NMP中，便于开展后续加工处理工序。如，NMP可用于溶解聚合材料，制备薄膜或涂层，还可用于溶解一些有机半导体材料，用于制备有机薄膜晶体管等器件。
除了清洗与溶解，NMP还能用作半导体行业中的离子液体，离子液体是一种独特性质的液体，由离子组成，具有低蒸低压、宽电化学窗口和良好的溶解性能等特点，NMP可与适当的阳离子或阴离子配对，形式离子液体，用于半导体的器件的性能和质量有着重要的影响。
NMP用于半导体材料的分离与回收。在半导体制造过程中，会产生大量的废液和废料，其中含有有价值的材料，通过使用NMP作为溶剂，可把废液中的有价值的特质溶解出来，进行分离和回收。这不仅可以减少资源的浪费，还可以降低环境污染。
