双色光敏激光直写(TCS-DLW)是一种新型的纳米光刻技术，可突破光学衍射极限，直接实现亚百纳米分辨率的任意2D/3D微纳结构制造。有机高分子光刻胶是双色光敏激光直写技术实现微纳制造的介质和载体，直接影响了其所制造微纳结构的精度、真实度等性能。最近中国科学家研究开发了一种聚乙烯吡咯烷酮(PVP)杂化双色光敏光刻胶。PVP与光刻胶的活性单体具有良好的兼容性，可以提高光刻胶的力学强度、提升聚合单体转化率并降低聚合阈值。PVP的引入还使得光刻胶的体积收缩率由18%降为3%，大幅减少了所制造微纳结构的内应力，改善了光刻精度和微纳结构的真实度。与未杂化PVP的光刻胶相比，PVP杂化光刻胶的最优光刻精度由85nm提高到了48nm，且加工线条表现出了更高的均匀性和稳定性，可以制造高质量和高精度的任意2D/3D微纳结构，有望在光学、生物学、微流控器件学等领域得到广泛的应用。

　　PVP是乙炔下游精细化学品，它是性能优异的高分子材料，具有优秀的生物相容性、溶解性(既能溶于水，又能溶于许多有机溶剂)、络合性、分散性、成膜性、增溶性、黏结性、化学稳定性、生物惰性和安全无毒性，广泛用于化妆品、医药卫生、食品、纺织印染、造纸、粘合剂、涂料、颜料、洗涤剂、金属加工、能源、高分子聚合、电子、分离膜、锂电池、光伏、医用高分子材料、纳米材料、石墨烯、催化剂、吸附材料以及农牧业等领域。目前，PVP的新用途仍在不断涌现，方兴未艾。